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真空镀膜机磁控溅射镀膜方法与特点

真空镀膜机磁控溅射镀膜方法与特点

真空镀膜机在辉光放电中，离子轰击阴极产生二次电子，电子在阴极位降区的电场作用下被加速与气体分子碰撞，使气体分子电离维持放电，由于电子在电场具有阆中广泛的用处加速的轨迹是直线，所以碰撞电离几率不高，气体的压强通常在2～10Pa的条件下进行溅射沉积，在低于2Pa时，辉光熄灭。但是，如果在与电场垂直的方向施加一磁场，电子在正交电磁场中的运动轨迹则为既与电场垂直又与磁场垂直的摆线。在实际的磁控条件下，从冷阴极发射出来的电子具有初始能量，并且阴极暗区的电场和磁场都是不均匀的，所以，从阴极发射出的电子的运动轨迹不是严格的摆线形，一般称做近似摆线运动。

    磁控溅射靶是磁控溅射镀膜的源，它必须满足两个条件：一是具有正交的电磁场；二是磁场方向要与阴极靶表面平行，并形咸闭合的环形水平磁场。

    从阴极靶表面发射出来的电子，在阴极暗区被加速获得能量，由于阴极靶表面有水平磁低温粉碎机场存在，它们不能直接飞向阳极，而是在环形水平磁场束缚下形成的等离子纳河环中，按近似摆线运动轨迹前进，电子的运动轨迹被加长了，从而提高了电子与气体分子的碰撞几率。电子的每一次碰撞都会损失一部分能量，而且电子只有通过能量交换才能逃出磁场的束缚，电子在能量完全交换之前，大约要飞行100m，碰撞频率为107次／s，这就使气体的离化率和阴极靶4．在可做实验项目上：软包装要求万能拉力实验机1机多用所能得劲的禽子流密度大幅度提高，从而获得高的溅射速率。

    东莞市汇成真空科技有限公司致力于研发和生产真空镀膜机，真空镀膜设备广泛应用于汽车、玻璃、塑胶、电子、钟表、五金等行业，产品广销全球，为客户提供定制化的工艺解决方案和机器。

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